一種硅通孔銅膜拋光液

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111218996.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113789127A 公開（公告）日 2021-12-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN113789127A 申請(qǐng)公布日 2021-12-14
分類號(hào) C09G1/02（2006.01）I;C23F3/04（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 宋英英;王晗笑;姜鑒哲;張琳 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 博力思（天津）電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 天津翰林知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 付長(zhǎng)杰
地址 300350天津市津南區(qū)咸水沽鎮(zhèn)聚興道9號(hào)4號(hào)樓一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明為一種硅通孔銅膜拋光液，其組成包含磨料、兩種或兩種以上螯合劑、碟形坑抑制劑，其特征為：所述磨料中具有大、中、小三種級(jí)別的不同粒徑按比例混合而成，其中大級(jí)別指磨料粒徑在70?120nm范圍內(nèi)取值，中級(jí)別指磨料粒徑在50?80nm范圍內(nèi)取值，小級(jí)別指磨料粒徑在30?50nm范圍內(nèi)取值，三種級(jí)別的粒徑在選取時(shí)按照等差數(shù)列的方式在相應(yīng)范圍內(nèi)選擇；所述螯合劑為甘氨酸與堿性氨基酸的混合物。該拋光液在CMP過程中，能快速去除銅膜，同時(shí)有效抑制銅膜表面凹凸平臺(tái)之間的臺(tái)階高度。