一種羥基修飾無定形SiOx殼層包覆納米硅負極材料、制備方法及負極片的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010192833.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111342027A | 公開(公告)日 | 2020-06-26 |
申請公布號 | CN111342027A | 申請公布日 | 2020-06-26 |
分類號 | H01M4/36(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 慈立杰;郭建光;王預 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳索理德新材料科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳智趣知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 深圳索理德新材料科技有限公司 |
地址 | 518000廣東省深圳市龍崗區(qū)坂田街道楊美社區(qū)布龍路524號坂田中心大廈706 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種羥基修飾無定形SiOx殼層包覆納米硅鋰離子電池負極材,是外表包覆有一層為0.5?5納米的羥基修飾無定形SiOx層的納米單質(zhì)硅顆粒,納米單質(zhì)硅顆粒的粒徑為20?60nm。所述材料通過以下方法制得:1)、配制乙醇水溶液;2)、向上述溶液中加入納米硅顆粒,超聲,形成均一的懸濁液;3)、將懸濁液靜置,超聲處理4)、將納米硅顆粒和乙醇水溶液分離,將納米硅材料置于真空烘箱中烘干,即可得到所述材料。本發(fā)明制得的材料,由厚度均勻的無定形SiOx包覆,對硅體積膨脹的抑制效果好,可逆容量低,且本發(fā)明所用的制備方法工藝簡單,產(chǎn)品性能穩(wěn)定,得率高,成本可控,材料可循環(huán)使用,對環(huán)境更友好。?? |
