一種改性量子點(diǎn)、量子點(diǎn)母粒、量子點(diǎn)擴(kuò)散板及制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011108619.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112226232A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-01-15 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112226232A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-15 |
| 分類號(hào) | C09K11/88(2006.01)I | 分類 | 染料；涂料；拋光劑；天然樹(shù)脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
| 發(fā)明人 | 陳志榮;林祉成;黃智顯;蔣瑞光 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東廣騰達(dá)科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海微策知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 廣東廣騰達(dá)科技有限公司;臺(tái)灣奈晶股份有限公司 |
| 地址 | 523000廣東省東莞市松山湖園區(qū)工業(yè)南路4號(hào)2棟411室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種改性量子點(diǎn)，其制備原料包括：量子點(diǎn)、改性劑；所述量子點(diǎn)與改性劑的重量比為1：(2～20)；所述改性量子點(diǎn)的量子產(chǎn)率維持率≥90％；通過(guò)與改性劑相互作用，提高了量子點(diǎn)在高分子母粒中的分散性，解決了量子點(diǎn)在高溫制程中量子產(chǎn)率下降的問(wèn)題；本發(fā)明還公開(kāi)了一種量子點(diǎn)母粒，將改性量子點(diǎn)制成母粒，工藝簡(jiǎn)單，擴(kuò)大了量子點(diǎn)的應(yīng)用范圍；本發(fā)明還公開(kāi)了一種量子點(diǎn)擴(kuò)散板，將改性量子點(diǎn)應(yīng)用在擴(kuò)散板中，保證了工藝的可操作性，提高了擴(kuò)散板的背光效果。?? |
