一種用于半導(dǎo)體外延生長的托盤及半導(dǎo)體加工設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120084437.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214327968U | 公開(公告)日 | 2021-10-01 |
申請公布號 | CN214327968U | 申請公布日 | 2021-10-01 |
分類號 | C30B25/12(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I;H01L21/673(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 周長健;吳從俊 | 申請(專利權(quán))人 | 中電化合物半導(dǎo)體有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 苗曉娟 |
地址 | 315336浙江省寧波市杭州灣新區(qū)興慈一路290號3號樓105-1室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型提供一種用于半導(dǎo)體外延生長的托盤,包括托盤本體、凹槽及支撐結(jié)構(gòu),所述凹槽設(shè)置在所述托盤本體上,所述凹槽的側(cè)壁向所述凹槽內(nèi)部傾斜一定角度,所述支撐結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述托盤本體上,且所述支撐結(jié)構(gòu)位于所述凹槽的底部。本實用新型可大幅度提高晶圓的固定性,減小晶圓由于慣性從凹槽內(nèi)滑出的概率,解決產(chǎn)品背面與凹槽接觸產(chǎn)生劃傷的問題。本實用新型還提供一種包含上述托盤的半導(dǎo)體加工設(shè)備,在此設(shè)備中生長的外延片質(zhì)量得到提高。 |
