一種單晶加料裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120362748.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215163311U 公開（公告）日 2021-12-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN215163311U 申請(qǐng)公布日 2021-12-14
分類號(hào) C30B35/00（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I 分類 晶體生長(zhǎng)〔3〕;
發(fā)明人 高文飛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 云南宇澤半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 王美章
地址 675099云南省楚雄彝族自治州楚雄市鹿城鎮(zhèn)陽光大道楚風(fēng)苑南門東側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種單晶加料裝置，屬于單晶硅技術(shù)領(lǐng)域。它包括爐體，其側(cè)面開設(shè)有側(cè)加料口；還包括外置加料機(jī)，其包括：基座；真空腔室，其滑動(dòng)置于基座頂面，真空腔室上設(shè)有真空泵，內(nèi)底部設(shè)有振動(dòng)發(fā)生器；加料倉(cāng)，其頂部與底部均開口，置于真空腔室上方，加料倉(cāng)底部穿過真空腔室頂部的開口并伸入真空腔室中；波紋管，其可伸縮，真空腔室側(cè)壁開口并與波紋管一端連通；加料盒，其一端置于真空腔室內(nèi)的振動(dòng)發(fā)生器上，進(jìn)料口連通加料倉(cāng)底部的開口；加料盒另一端穿過真空腔室側(cè)壁開口并可從波紋管另一端伸出。本實(shí)用新型的裝置加料效率高，加料過程中爐體內(nèi)部壓力變化波動(dòng)小，且爐體內(nèi)熱量散失小，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、易于制造的優(yōu)點(diǎn)。