一種用于半導(dǎo)體濕法工藝的混酸系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023322381.5 申請日 -
公開(公告)號(hào) CN215586009U 公開(公告)日 2022-01-21
申請公布號(hào) CN215586009U 申請公布日 2022-01-21
分類號(hào) B01F23/40(2022.01)I;B01F35/83(2022.01)I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 鄧信甫;李志鋒;徐銘;陳佳煒;劉大威 申請(專利權(quán))人 上海至純潔凈系統(tǒng)科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海智力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 代理人 杜冰云;周濤
地址 200241上海市閔行區(qū)紫海路170號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于半導(dǎo)體濕法工藝的混酸系統(tǒng),包括槽式濕法清洗設(shè)備和混酸裝置,混酸裝置包括殼體,分別設(shè)置在殼體內(nèi)部不同腔室內(nèi)的氣路單元和液路單元;所述氣路單元用以控制液路單元的管路壓力;所述液路單元包括多個(gè)進(jìn)液管、混液閥、排液管和出液管,進(jìn)液管用于將不同液體輸送入混液閥進(jìn)行瞬時(shí)混合,多個(gè)進(jìn)液管并聯(lián)連接至混液閥的進(jìn)液口;排液管和出液管分別連接至混液閥的出液口,出液管用于將混液閥內(nèi)混合均勻的混合液輸送至所述槽式濕法清洗設(shè)備的清洗槽中。本實(shí)用新型能夠精確控制濕法清洗溶液中的混酸濃度,提高了發(fā)應(yīng)性溶液的配比精度,同時(shí)也能大大提高反應(yīng)性溶液的配比效率。