一種激光刻痕機在縱剪線上的應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910725001.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110306030B | 公開(公告)日 | 2021-09-24 |
申請公布號 | CN110306030B | 申請公布日 | 2021-09-24 |
分類號 | C21D8/12 | 分類 | 鐵的冶金; |
發(fā)明人 | 劉鵬程;張艷芳;劉寶志;李振興;賈建峰 | 申請(專利權(quán))人 | 包頭市威豐稀土電磁材料股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 太原景譽專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 鄭景華 |
地址 | 014030 內(nèi)蒙古自治區(qū)包頭市稀土高新區(qū)濱河新區(qū)機電園東方希望大道23號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明一種激光刻痕機在縱剪線上的應(yīng)用,屬于取向硅鋼生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域;提供了一種大功率、且刻痕質(zhì)量較高的應(yīng)用激光刻痕機的縱剪線;技術(shù)方案為:一種激光刻痕機在縱剪線上的應(yīng)用,包括:上料開卷段、清洗段、第一烘干段、刻痕段、涂層段、第二烘干段、退火段、測磁段和下料收卷段;所述上料開卷段、清洗段、第一烘干段、刻痕段、涂層段、第二烘干段、退火段、測磁段和下料收卷段依次設(shè)置,所述刻痕段采用激光刻痕機;所述刻痕段還包括凹透鏡,所述凹透鏡設(shè)置于若干并列設(shè)置的激光刻痕機的下方;本發(fā)明可廣泛應(yīng)用于取向硅鋼刻痕領(lǐng)域。 |
