一種減小石英WAFER片腐蝕散差的噴蠟方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110689029.5 申請日 -
公開（公告）號 CN113463027A 公開（公告）日 2021-10-01
申請公布號 CN113463027A 申請公布日 2021-10-01
分類號 C23C14/18（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;C23F1/02（2006.01）I;C30B33/10（2006.01）I;B05D1/02（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 萬楊;吳豐順;欒興賀;張小偉;楊飛;黃祥秒;黃大勇 申請（專利權(quán)）人 泰晶科技股份有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 441300湖北省隨州市曾都經(jīng)濟開發(fā)區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種減小石英WAFER片腐蝕散差的噴蠟方法，包括：雙面濺射鍍膜、涂膠、曝光、顯影、金屬蝕刻、水晶蝕刻、去膠、去金屬、頻率測試、噴涂等步驟。本發(fā)明解決了現(xiàn)有石英晶圓腐蝕散差大的問題，同時也提高了產(chǎn)品量產(chǎn)合格率。