一種硅片的物理清洗方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010223545.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN111330903B 公開(kāi)（公告）日 2021-08-17
申請(qǐng)公布號(hào) CN111330903B 申請(qǐng)公布日 2021-08-17
分類號(hào) B08B3/08;B08B3/12;C11D1/83;C11D3/06;C11D3/20;C11D3/22;C11D3/33;C11D11/00;C11D1/22;C11D1/72 分類 清潔;
發(fā)明人 張小飛 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 常州高特新材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 常州市英諾創(chuàng)信專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 謝新萍
地址 213000 江蘇省常州市武進(jìn)區(qū)潞城街道五一路310號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種硅片的物理清洗方法。首先分析硅片基底所帶的電荷；然后將硅片放入超聲波清洗設(shè)備，加入清洗液，通過(guò)超聲波震蕩清洗硅片。采用超聲波物理方法清洗硅片，利用電荷的相互作用去除硅片表面的污染物，避免了使用氫氧化鈉，氫氧化鉀等腐蝕性化學(xué)清洗方法對(duì)硅片的損傷。本發(fā)明的清洗劑中加入的表面活性劑和分散劑可使硅片表面存在的固體及液體顆粒有效溶解在清洗液中，同時(shí)也能防止顆粒的沉降和凝聚，形成安定的懸浮液，因此，在清洗的過(guò)程中，加入帶有表面活性劑和分散劑的清洗液，配合超聲波進(jìn)行清洗能夠有效的清洗硅片表面的污染物。