一種單晶硅刻蝕制絨添加劑及其應用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011643702.3 申請日 -
公開（公告）號 CN112813502A 公開（公告）日 2021-05-18
申請公布號 CN112813502A 申請公布日 2021-05-18
分類號 C30B33/10;C30B29/06;H01L31/18 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 張小飛 申請（專利權）人 常州高特新材料股份有限公司
代理機構 常州市英諾創(chuàng)信專利代理事務所（普通合伙） 代理人 王志慧
地址 213000 江蘇省常州市武進區(qū)潞城街道五一路310號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于硅片制絨技術，特別涉及一種單晶硅刻蝕制絨添加劑及其應用。選擇特定種類、特定分子量的魔芋葡甘露聚糖作為添加劑加入到堿液中制備制絨液，并和表面活性劑、抗壞血酸、氫氧化鈉、炔二醇、磺酸鈉、絮凝劑加入復配協同，得到單晶硅刻蝕制絨液，并采用該制絨液對單晶硅進行制絨，不僅可達到降低堿液用量，而且避免了硅片表面的規(guī)整性受到破壞，能有效減少對光的反射，提高組裝得到的太陽能電池片的光電轉換效率。