一種改善SiC功率器件封裝熱均勻性的封裝結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202011628481.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112670254A | 公開(公告)日 | 2021-04-16 |
申請公布號 | CN112670254A | 申請公布日 | 2021-04-16 |
分類號 | H01L23/373;H01L23/492;H01L25/11;H01L25/18 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 何少偉;馬敏輝;宋召海 | 申請(專利權(quán))人 | 華芯威半導體科技(北京)有限責任公司 |
代理機構(gòu) | 北京邦創(chuàng)至誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 張宇鋒 |
地址 | 100744 北京市大興區(qū)經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)地盛西路6號院3號樓3層302-2 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種改善SiC功率器件封裝熱均勻性的封裝結(jié)構(gòu),包括SiC芯片一、SiC芯片二、DBC上銅層一、DBC上銅層二、DBC上銅層三、DBC陶瓷層、DBC下銅層以及基板;所述DBC上銅層一、DBC上銅層二、DBC上銅層三以及所述DBC下銅層的表面均刻蝕鏤空結(jié)構(gòu)焊料層;所述SiC芯片一的上表面通過鍵合鋁包銅帶與所述DBC上銅層二上的所述鏤空結(jié)構(gòu)焊料層相連;所述SiC芯片二的上表面通過鍵合鋁包銅帶與所述DBC上銅層三上的所述鏤空結(jié)構(gòu)焊料層相連。本申請的封裝結(jié)構(gòu)散熱均勻、可靠性高,鍵合鋁包銅帶導電性能好、寄生電感小,可以有效加固鍵合線的連接,提高SiC功率器件的使用壽命。 |
