一種用控溫電弧爐制備氧化鎂晶體的方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200410100459.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN1664176A | 公開(公告)日 | 2005-09-07 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN1664176A | 申請(qǐng)公布日 | 2005-09-07 |
分類號(hào) | C30B11/00;C30B29/16 | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 王寧會(huì);王曉臣;黃耀;戚棟;吳彥;李國(guó)鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 大連理工大學(xué)科技園有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 大連理工大學(xué)專利中心 | 代理人 | 侯明遠(yuǎn) |
地址 | 116024遼寧省大連市甘井子區(qū)凌工路2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明屬于材料科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域,涉及到金屬氧化物晶體制備方法,特別涉及到一種用控溫電弧爐制備氧化鎂晶體的方法。以申請(qǐng)人的發(fā)明申請(qǐng)《一種制備氧化鎂晶體的控溫電弧爐》中公布的電弧爐為實(shí)施基礎(chǔ),以從感溫設(shè)備得到的數(shù)據(jù)和預(yù)設(shè)的溫度場(chǎng)方程計(jì)算得到的爐內(nèi)溫度狀態(tài)作為進(jìn)行電弧和冷卻設(shè)備操作的依據(jù),通過電弧和冷卻設(shè)備的配合工作在爐中形成適宜晶體生長(zhǎng)的溫度場(chǎng)。本發(fā)明的效果和益處是,提出的氧化鎂晶體制備方法可以提供適宜的晶體生長(zhǎng)環(huán)境,大幅度提高氧化鎂晶體的產(chǎn)量和質(zhì)量,有效的節(jié)省了能源,顯著地降低了成本。另外,該技術(shù)也可以用來生長(zhǎng)其他高溫晶體。 |
