一種新型靜電吸附卡盤

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120272601.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214378380U 公開（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN214378380U 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) H01L21/683（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 王蜀豫 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州晶通科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） 代理人 張超
地址 311121浙江省杭州市余杭區(qū)文一西路1217號(hào)IT公園1號(hào)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種新型靜電吸附卡盤，包括由兩個(gè)鋁制半圓盤面共同配合構(gòu)成的圓形卡盤，鋁制盤面上有陶瓷層，兩個(gè)半圓盤面的圓心位置分別設(shè)有C型凸臺(tái)，C型凸臺(tái)上設(shè)有延伸到電源處的C型槽，C型凸臺(tái)的上表面和槽壁均設(shè)有鈦和氮化鈦涂層，使得C型凸臺(tái)上表面的靜電電壓能夠直連到電源作為中性地，兩個(gè)半圓盤面在陶瓷層形成自圓心設(shè)有向外擴(kuò)散的若干徑向不同的導(dǎo)流環(huán)槽，陶瓷層上，自最內(nèi)層的導(dǎo)流環(huán)槽上設(shè)有朝向半圓盤面外圍的若干導(dǎo)流線槽，導(dǎo)流環(huán)槽和導(dǎo)流線槽共同包圍形成的若干陶瓷面上設(shè)有若干鈦制小面積接觸點(diǎn)，在半圓盤面的周向靠近最外圍的盤面上設(shè)有若干出氣孔，半圓盤面靠近C型凸臺(tái)的盤面上設(shè)有若干進(jìn)氣孔。