高發(fā)射性能的MEMS超聲換能器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110034536.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112871614B | 公開(公告)日 | 2022-03-15 |
申請公布號 | CN112871614B | 申請公布日 | 2022-03-15 |
分類號 | B06B1/06(2006.01)I | 分類 | 一般機械振動的發(fā)生或傳遞; |
發(fā)明人 | 孫成亮;朱偉;吳志鵬;王磊;林炳輝;胡博豪 | 申請(專利權(quán))人 | 寧波華彰企業(yè)管理合伙企業(yè)(有限合伙) |
代理機構(gòu) | 武漢科皓知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 鄭勤振 |
地址 | 315832 浙江省寧波市北侖區(qū)梅山七星路88號1幢401室A區(qū)E2025 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及高發(fā)射性能的MEMS超聲換能器,通過在超聲換能器上設(shè)置深槽提高發(fā)射聲壓或者帶寬,其中深槽的分布方式包括以下三種:一個或多個深槽貫穿超聲換能器壓電層、下電極、無源層、SiO2層,并一直延伸到襯底內(nèi);超聲換能器遠離襯底的上表面鍵合一層硅層,正對超聲換能器的振膜的部分設(shè)置有貫通硅層作為波導(dǎo)的開口,一個或多個深槽分布在波導(dǎo)的周圍;一個或多個深槽分布在倒裝結(jié)構(gòu)超聲換能器襯底刻蝕的背腔周圍。超聲換能器發(fā)射的聲波經(jīng)過深槽時會引起深槽內(nèi)的介質(zhì)振動,這種振動會在超聲換能器振膜上產(chǎn)生一個附加聲場,通過調(diào)節(jié)深槽的尺寸,可以調(diào)節(jié)附加聲場,從而調(diào)節(jié)超聲換能器的發(fā)射聲壓、帶寬、指向性等發(fā)射性能。 |
