一種外延設(shè)備冷卻系統(tǒng)和方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210108042.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114481314A | 公開(公告)日 | 2022-05-13 |
申請公布號 | CN114481314A | 申請公布日 | 2022-05-13 |
分類號 | C30B25/16(2006.01)I;C30B25/20(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 席勇;王力 | 申請(專利權(quán))人 | 西安奕斯偉材料科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安維英格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 710100陜西省西安市高新區(qū)西灃南路1888號1-3-029室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種外延設(shè)備冷卻系統(tǒng)和方法,該系統(tǒng)包括:加熱模塊,所述加熱模塊經(jīng)配置為能夠以不同的加熱功率向外延片進(jìn)行熱輻射;控制模塊,用于當(dāng)所述外延片的上表面測量溫度和下表面測量溫度之間的溫度差大于預(yù)設(shè)閾值時(shí),向所述加熱模塊發(fā)送控制信號以控制所述加熱模塊的功率使得所述溫度差小于所述預(yù)設(shè)閾值。通過控制模塊和加熱模塊保障外延片的上表面測量溫度與下表面測量溫度的溫度差在合理范圍內(nèi),有效減小了外延片的邊緣應(yīng)力,獲得符合工藝要求的外延片。 |
