一種硅片邊緣拋光裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202123355342.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN216542412U | 公開(公告)日 | 2022-05-17 |
申請公布號 | CN216542412U | 申請公布日 | 2022-05-17 |
分類號 | B24B9/06(2006.01)I;B24B29/02(2006.01)I;B24B57/02(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 聶陽 | 申請(專利權(quán))人 | 西安奕斯偉材料科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安維英格知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 710100陜西省西安市高新區(qū)西灃南路1888號1-3-029室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種硅片邊緣拋光裝置,所述邊緣拋光裝置用于拋光位于硅片邊緣處的缺口,所述拋光裝置包括:夾具,所述夾具以所述硅片的端面在豎直平面內(nèi)的方式夾持所述硅片;用于拋光所述缺口的研磨墊,所述研磨墊在水平面內(nèi)繞中心軸線旋轉(zhuǎn);布置在所述研磨墊上方的拋光液供給模塊,所述拋光液供給模塊向所述缺口提供拋光液。所述裝置通過夾具在豎直平面內(nèi)接收硅片以及研磨墊在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)防止拋光液流到硅片表面,從而避免引起粗糙度異常、金屬污染以及顆粒殘留等品質(zhì)問題。 |
