一種掃光加工工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811557636.0 申請日 -
公開（公告）號 CN109664164B 公開（公告）日 2022-02-25
申請公布號 CN109664164B 申請公布日 2022-02-25
分類號 B24B1/00（2006.01）I 分類 磨削；拋光;
發(fā)明人 胡志海;鄧敏;葉惠敏;邱欣南 申請（專利權）人 贛州市德普特科技有限公司
代理機構 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標事務所（普通合伙） 代理人 齊則琳;歐陽雪兵
地址 341400江西省贛州市南康區(qū)龍嶺工業(yè)園西區(qū)A8-A10段
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種掃光加工工藝，包括以下步驟：正轉第一階段：設置加工時間為10s，上盤轉速80?100rpm，上小盤轉速80?100rpm，下盤轉速3?7rpm，下小盤轉速1?5rpm，加工壓力90kg；正轉第二階段：設置加工時間為10s，上盤轉速170?190rpm，上小盤轉速170?190rpm，下盤轉速3?7rpm，下小盤轉速1?5rpm，加工壓力100kg；反轉第一階段；反轉第二階段；該工藝省略了平磨和上掃下磨的工序，一步掃光打磨，使得器件更加平整、光亮，平晶平面度N≤3。