商標(biāo)進(jìn)度
1
商標(biāo)申請
2021-04-30
2
初審公告
3
已注冊
終止
商標(biāo)詳情
| 商標(biāo) |
C
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| 商標(biāo)名稱 | CS MICROELECTRONICS CO., LTD | 商標(biāo)狀態(tài) | 駁回復(fù)審中 |
| 申請日期 | 2021-04-30 | 申請/注冊號 | 55745365 |
| 國際分類 | 01類-化學(xué)原料 | 是否共有商標(biāo) | 否 |
| 申請人名稱（中文） | 威科賽樂微電子股份有限公司 | 申請人名稱（英文） | - |
| 申請人地址（中文） | 重慶市萬州經(jīng)開區(qū)高峰園檬子中路2號 | 申請人地址（英文） | - |
| 商標(biāo)類型 | 駁回復(fù)審---評審分案 | 商標(biāo)形式 | - |
| 初審公告期號 | - | 初審公告日期 | - |
| 注冊公告期號 | 55745365 | 注冊公告日期 | - |
| 優(yōu)先權(quán)日期 | - | 代理/辦理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 |
| 國際注冊日 | - | 后期指定日期 | - |
| 專用權(quán)期限 | - | ||
| 商標(biāo)公告 | - | ||
| 商品/服務(wù) |
砷(0101)
鎵(0101)
工業(yè)硅(0101)
磷化銦()
砷化鎵()
半導(dǎo)體用硅(0101)
半導(dǎo)體制造用蝕刻劑(0104)
半導(dǎo)體生產(chǎn)中在半導(dǎo)體晶片上沉積薄膜用化工原料(0104)
磷(0101)
磷化銦(0102)
砷化鎵(0102)
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| 商標(biāo)流程 |
2021-04-30
商標(biāo)注冊申請---申請收文
2021-05-25
商標(biāo)注冊申請---受理通知書發(fā)文
2021-08-14
商標(biāo)注冊申請---駁回通知發(fā)文
2021-09-10
駁回復(fù)審---申請收文
2022-02-16
駁回復(fù)審---評審分案 |
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