商標(biāo)進(jìn)度
商標(biāo)申請(qǐng)
2021-04-30
初審公告
已注冊(cè)
終止
商標(biāo)詳情
商標(biāo) |
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C
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商標(biāo)名稱 | CS MICROELECTRONICS CO.,LTD | 商標(biāo)狀態(tài) | 駁回復(fù)審中 |
申請(qǐng)日期 | 2021-04-30 | 申請(qǐng)/注冊(cè)號(hào) | 55767757 |
國(guó)際分類 | 40類-材料加工 | 是否共有商標(biāo) | 否 |
申請(qǐng)人名稱(中文) | 威科賽樂微電子股份有限公司 | 申請(qǐng)人名稱(英文) | - |
申請(qǐng)人地址(中文) | 重慶市萬(wàn)州經(jīng)開區(qū)高峰園檬子中路2號(hào) | 申請(qǐng)人地址(英文) | - |
商標(biāo)類型 | 駁回復(fù)審---評(píng)審分案 | 商標(biāo)形式 | - |
初審公告期號(hào) | - | 初審公告日期 | - |
注冊(cè)公告期號(hào) | 55767757 | 注冊(cè)公告日期 | - |
優(yōu)先權(quán)日期 | - | 代理/辦理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 |
國(guó)際注冊(cè)日 | - | 后期指定日期 | - |
專用權(quán)期限 | - | ||
商標(biāo)公告 | - | ||
商品/服務(wù) |
半導(dǎo)體晶片的加工(4015)
打磨(4001)
研磨(4001)
研磨拋光(4001)
用激光束處理材料(4001)
電鍍(4002)
金屬處理(4002)
化學(xué)試劑加工和處理(4015)
光學(xué)透鏡研磨(4006)
廢物處理(變形)(4012)
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商標(biāo)流程 |
2021-04-30
商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---申請(qǐng)收文
2021-05-25
商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---受理通知書發(fā)文
2021-08-12
商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng)---駁回通知發(fā)文
2021-09-10
駁回復(fù)審---申請(qǐng)收文
2022-02-16
駁回復(fù)審---評(píng)審分案 |
