一種腔蓋、腔體以及等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023349053.4 申請日 -
公開（公告）號 CN214168124U 公開（公告）日 2021-09-10
申請公布號 CN214168124U 申請公布日 2021-09-10
分類號 C23C16/511（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉文科;黃春林;胡宗義 申請（專利權(quán)）人 成都紐曼和瑞微波技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京卓恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 孔鵬
地址 610000四川省成都市成華區(qū)龍?zhí)犊偛拷?jīng)濟(jì)城華冠路192號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了一種腔蓋、腔體以及等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備，屬于微波電磁聚焦技術(shù)領(lǐng)域，腔蓋包括主體和覆蓋片，主體包括至少兩個(gè)同軸的腔體，這些腔體的直徑沿他們的軸線方向依次增大；在主體的外壁上設(shè)置有供冷卻水流動(dòng)的第一凹槽，覆蓋片與主體可拆卸連接。本實(shí)用新型公開的上腔體利用階梯狀的腔體進(jìn)行配合，能夠高效增強(qiáng)微波功率的耦合，極大地提高了諧振腔內(nèi)微波電場的聚焦能力；供冷卻水經(jīng)過的第一凹槽直接設(shè)置在主體上，冷卻水與腔體之間的間隔距離小，冷卻效果較佳，且覆蓋片與主體之間為可拆卸配合，可以隨時(shí)對第一凹槽進(jìn)行清理，避免水垢將第一凹槽堵塞，從而保證對主體冷卻的高效性。