一種等離子體設(shè)備主機及氣相沉積系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202023340263.7 申請日 -
公開（公告）號 CN214168123U 公開（公告）日 2021-09-10
申請公布號 CN214168123U 申請公布日 2021-09-10
分類號 C23C16/511（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 季宇;劉文科;季天仁 申請（專利權(quán)）人 成都紐曼和瑞微波技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京卓恒知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 孔鵬
地址 610000四川省成都市成華區(qū)龍?zhí)犊偛拷?jīng)濟城華冠路192號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種等離子體設(shè)備主機及微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，屬于微波技術(shù)領(lǐng)域。上述等離子體設(shè)備主機包括機架、真空腔基座、腔蓋及升降裝置；真空腔基座與機架連接，真空腔基座的中部設(shè)置有樣品基片臺；腔蓋能夠與真空基座進行密封配合。升降裝置的底部與機架連接，上部與腔蓋連接，升降裝置能夠帶動腔蓋上下移動。使用時，通過操作升降裝置起吊或下降，從而將腔蓋打開或扣合在真空腔基座上。采用上述升降裝置后，其不僅提高了工作效率，還降低了操作人員的勞動強度。