掩模版、光刻裝置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210373932.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN114690534A 公開(kāi)(公告)日 2022-07-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN114690534A 申請(qǐng)公布日 2022-07-01
分類號(hào) G03F1/00(2012.01)I;G03F1/68(2012.01)I;G02F1/01(2006.01)I 分類 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李西軍 申請(qǐng)(專利權(quán))人 西湖大學(xué)
代理機(jī)構(gòu) 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 -
地址 310024浙江省杭州市西湖區(qū)云棲小鎮(zhèn)石龍山街18號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開(kāi)涉及一種掩模版、光刻裝置和掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法,掩模版包括:基板,基板被配置為對(duì)用于光刻的曝光光束透光,其中,曝光光束處于第一頻帶中;以及光致變色層,光致變色層設(shè)于基板的一側(cè)上且包括光致變色材料,光致變色層被配置為在具有空間結(jié)構(gòu)的調(diào)制光束照射下產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的掩模版圖案,其中,光致變色材料基于是否被調(diào)制光束中的調(diào)制光照射到而處于對(duì)曝光光束的非透光狀態(tài)或透光狀態(tài),且調(diào)制光束處于與第一頻帶分隔開(kāi)的第二頻帶中。