掩模版、光刻裝置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210373932.5 申請日 -
公開（公告）號 CN114690534A 公開（公告）日 2022-07-01
申請公布號 CN114690534A 申請公布日 2022-07-01
分類號 G03F1/00（2012.01）I;G03F1/68（2012.01）I;G02F1/01（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李西軍 申請（專利權(quán)）人 西湖大學(xué)
代理機(jī)構(gòu) 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 -
地址 310024浙江省杭州市西湖區(qū)云棲小鎮(zhèn)石龍山街18號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及一種掩模版、光刻裝置和掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法，掩模版包括：基板，基板被配置為對用于光刻的曝光光束透光，其中，曝光光束處于第一頻帶中；以及光致變色層，光致變色層設(shè)于基板的一側(cè)上且包括光致變色材料，光致變色層被配置為在具有空間結(jié)構(gòu)的調(diào)制光束照射下產(chǎn)生對應(yīng)的掩模版圖案，其中，光致變色材料基于是否被調(diào)制光束中的調(diào)制光照射到而處于對曝光光束的非透光狀態(tài)或透光狀態(tài)，且調(diào)制光束處于與第一頻帶分隔開的第二頻帶中。