掩模版、光刻裝置、掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202210373932.5 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114690534A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114690534A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-01 |
| 分類號(hào) | G03F1/00（2012.01）I;G03F1/68（2012.01）I;G02F1/01（2006.01）I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 李西軍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 西湖大學(xué) |
| 代理機(jī)構(gòu) | 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 310024浙江省杭州市西湖區(qū)云棲小鎮(zhèn)石龍山街18號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公開(kāi)涉及一種掩模版、光刻裝置和掩模版的制造方法和基于掩模版的光刻方法，掩模版包括：基板，基板被配置為對(duì)用于光刻的曝光光束透光，其中，曝光光束處于第一頻帶中；以及光致變色層，光致變色層設(shè)于基板的一側(cè)上且包括光致變色材料，光致變色層被配置為在具有空間結(jié)構(gòu)的調(diào)制光束照射下產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的掩模版圖案，其中，光致變色材料基于是否被調(diào)制光束中的調(diào)制光照射到而處于對(duì)曝光光束的非透光狀態(tài)或透光狀態(tài)，且調(diào)制光束處于與第一頻帶分隔開(kāi)的第二頻帶中。 |
