光刻裝置和光刻系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210373960.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114675507A 公開（公告）日 2022-06-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN114675507A 申請(qǐng)公布日 2022-06-28
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李西軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 西湖大學(xué)
代理機(jī)構(gòu) 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 -
地址 310024浙江省杭州市西湖區(qū)云棲小鎮(zhèn)石龍山街18號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本公開涉及一種光刻裝置和光刻系統(tǒng)。光刻裝置包括：信號(hào)生成模塊，信號(hào)生成模塊被配置為根據(jù)版圖生成一個(gè)或多個(gè)掩模版圖案，并根據(jù)一個(gè)或多個(gè)掩模版圖案中的每個(gè)掩模版圖案分別生成相應(yīng)的掩模版驅(qū)動(dòng)信號(hào)；以及掩模版驅(qū)動(dòng)模塊，掩模版驅(qū)動(dòng)模塊與信號(hào)生成模塊通信地連接，且掩模版驅(qū)動(dòng)模塊被配置為分別根據(jù)一組或多組掩模版驅(qū)動(dòng)信號(hào)來控制掩模版上的各個(gè)像素區(qū)域的透光狀態(tài)，以在掩模版上形成相應(yīng)的掩模版圖案。