一種晶硅太陽能電池刻蝕水膜勻膜裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201821397395.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN208637448U 公開（公告）日 2019-03-22
申請(qǐng)公布號(hào) CN208637448U 申請(qǐng)公布日 2019-03-22
分類號(hào) H01L31/18（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 支凱飛; 楊輝; 李偉樂; 胡學(xué)一; 吳而義 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 洛陽尚德太陽能電力有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京中原華和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 壽寧;張華輝
地址 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)新華路9號(hào)、16號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種晶硅太陽能電池刻蝕水膜勻膜裝置，包括超聲波霧化器，導(dǎo)流管道，分流管道，噴淋管道；導(dǎo)流管道與超聲波霧化器的霧化氣體出口連通，分流管道與導(dǎo)流管道連通，多個(gè)噴淋管道均與分流管道連通，每個(gè)噴淋管道的出口端均設(shè)有無驅(qū)動(dòng)勻流扇，該無驅(qū)動(dòng)勻流扇包括通過螺絲固定于噴淋管道的三叉支架和與三叉支架連接的軸承，軸承上還連接有多個(gè)曲條狀勻流扇葉片，多個(gè)曲條狀勻流扇葉片以軸承為中心均勻分布且可繞軸承旋轉(zhuǎn)。本實(shí)用新型利用超聲波霧化后的水分子在無驅(qū)動(dòng)勻流扇的驅(qū)動(dòng)下均勻覆蓋到硅片表面，預(yù)先濕潤硅片表面，在之后水膜噴淋時(shí)保證硅片表面均勻、完全被水膜覆蓋，避免出現(xiàn)因水膜覆蓋不均勻造成的返工和降級(jí)。