晶圓清洗裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011153388.0 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN112371591B 公開(kāi)（公告）日 2022-03-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN112371591B 申請(qǐng)公布日 2022-03-04
分類號(hào) B08B1/02（2006.01）I;B08B17/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 許振杰;王同慶 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 華海清科（北京）科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 100176北京市大興區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)地盛北街1號(hào)院40號(hào)樓11層1107室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了晶圓清洗裝置，其包括：殼體；支撐組件，其位于所述殼體中，用于可旋轉(zhuǎn)地支撐沿豎直方向設(shè)置的待清洗的晶圓；清洗刷，其平行、間隔設(shè)置并繞其軸線滾動(dòng)；護(hù)板，其設(shè)置于所述清洗刷的上側(cè)，以阻擋清洗刷滾動(dòng)產(chǎn)生的流體濺落至晶圓表面。