一種室內(nèi)氣體處理設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022985013.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215388662U 公開（公告）日 2022-01-04
申請(qǐng)公布號(hào) CN215388662U 申請(qǐng)公布日 2022-01-04
分類號(hào) B01D53/78（2006.01）I;B01J19/30（2006.01）I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 王貝易;孫濤;侯新建 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 盛奕半導(dǎo)體科技（無錫）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 無錫市朗高知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙華
地址 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)中國(guó)傳感網(wǎng)國(guó)際創(chuàng)新園E2-111
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種室內(nèi)氣體處理設(shè)備，用于解決現(xiàn)有濕法半導(dǎo)體設(shè)備對(duì)晶元加工時(shí)產(chǎn)生的揮發(fā)性氣體的結(jié)晶問題；一種室內(nèi)氣體處理設(shè)備，包括腔體，進(jìn)氣入口，第一混合區(qū)，第一處理腔室，循環(huán)水箱，新水箱，第二混合區(qū)，第二處理腔室，氣液分離器，排氣出口；所述腔體包括兩個(gè)混合區(qū)和兩個(gè)處理腔室，用于收集和吸收廢氣；所述第一混合區(qū)為L(zhǎng)型設(shè)置，所述第二混合區(qū)為直角Z型設(shè)置，所述第二處理腔室內(nèi)部設(shè)置有第二針狀填料，所述第二針狀填料頂部設(shè)置有第二大流量噴淋器，所述循環(huán)水箱設(shè)置在腔體的底部，為吸收廢氣存儲(chǔ)充足水量；所述新水箱設(shè)置在所述腔體一側(cè)，本實(shí)用新型的有益效果：抑制廠務(wù)管道的結(jié)晶形成，減少?gòu)U氣排放。