一種干膜光刻膠用顯影液及其制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010929319.8 申請日 -
公開（公告）號 CN111965958A 公開（公告）日 2020-11-20
申請公布號 CN111965958A 申請公布日 2020-11-20
分類號 G03F7/32 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 王曉偉 申請（專利權(quán)）人 蘇州理碩科技有限公司
代理機構(gòu) 北京酷愛智慧知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 蘇州理碩科技有限公司
地址 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城10棟102
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種干膜光刻膠用顯影液及其制備方法，所述顯影液由包括如下重量百分比的組分構(gòu)成：堿源0.8％～5％、離子型表面活性劑0.05％～0.3％，余量為水；本發(fā)明顯影液中通過加入離子型表面活性劑能夠降低水的表面張力，能夠促進顯影液進入圖形之間，能夠充分溶解光刻膠樹脂；此外，顯影結(jié)束后，離子型表面活性劑能夠附著于光刻膠表面，當用純水清洗時，純水能夠順利進入圖形之間的空白區(qū)域，進而能夠徹底的去除光刻膠殘余物，進而能夠大大提高制備芯片和面板的良品率。