商標(biāo)進(jìn)度
商標(biāo)申請
2019-12-24
初審公告
2020-07-27
已注冊
2020-10-28
4
終止
2030-10-27
商標(biāo)詳情
| 商標(biāo) |
L
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| 商標(biāo)名稱 | LT | 商標(biāo)狀態(tài) | 商標(biāo)已注冊 |
| 申請日期 | 2019-12-24 | 申請/注冊號 | 43285411 |
| 國際分類 | 01類-化學(xué)原料 | 是否共有商標(biāo) | 否 |
| 申請人名稱（中文） | 蘇州理碩科技有限公司 | 申請人名稱（英文） | - |
| 申請人地址（中文） | 中國（江蘇）自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城10幢102室 | 申請人地址（英文） | - |
| 商標(biāo)類型 | 商標(biāo)注冊申請---受理通知書發(fā)文 | 商標(biāo)形式 | - |
| 初審公告期號 | 1705 | 初審公告日期 | 2020-07-27 |
| 注冊公告期號 | 43285411 | 注冊公告日期 | 2020-10-28 |
| 優(yōu)先權(quán)日期 | - | 代理/辦理機(jī)構(gòu) | 阿里巴巴科技（北京）有限公司 |
| 國際注冊日 | - | 后期指定日期 | - |
| 專用權(quán)期限 | 2020-10-28-2030-10-27 | ||
| 商標(biāo)公告 | - | ||
| 商品/服務(wù) |
半導(dǎo)體生產(chǎn)中在半導(dǎo)體晶片上沉積薄膜用化工原料(0104)
半導(dǎo)體制造用蝕刻劑(0104)
工業(yè)用化學(xué)制劑(0104)
工業(yè)用清潔劑(0104)
光致抗蝕劑(0104)
平板印刷用化學(xué)品(0104)
攝影用感光劑(0107)
攝影用化學(xué)制劑(0107)
攝影用顯影劑(0107)
實(shí)驗(yàn)室分析用化學(xué)制劑（非醫(yī)用、非獸醫(yī)用）(0106)
印刷電路板制造用蝕刻劑(0104)
印刷電路制造用化學(xué)氧化劑(0104)
制造印刷電路板用掩膜化合物(0104)
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| 商標(biāo)流程 |
2019-12-24
商標(biāo)注冊申請---申請收文
2020-01-15
商標(biāo)注冊申請---受理通知書發(fā)文 |
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