GT35球碗曲面沉積TiN膜工藝方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110907484.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113652637A 公開（公告）日 2021-11-16
申請公布號 CN113652637A 申請公布日 2021-11-16
分類號 C23C14/06（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I;C23C14/22（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 仲銀鵬;王昊;李文卓 申請（專利權(quán)）人 陜西航天時代導(dǎo)航設(shè)備有限公司
代理機構(gòu) 寶雞市新發(fā)明專利事務(wù)所 代理人 嚴翔
地址 721300陜西省寶雞市陳倉區(qū)科技新城高新大道501號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種GT35球碗曲面沉積TiN膜工藝方法，包括以下步驟S1.預(yù)熱；S2.刻蝕；S3.打底；S4.沉積TiN過渡層；S5.沉積TiN功能層，啟動Ti靶材同時通入飽和狀態(tài)氮氣，保持爐壓和溫度，反復(fù)該步驟，且每次沉積前需要使前次沉積的功能層冷卻至爐內(nèi)溫度從而消除功能層內(nèi)應(yīng)力，直至沉積達到規(guī)定厚度完成功能層沉積；S6.冷卻出爐：零件隨爐冷卻至80℃以下取出；在沉積功能層時逐層沉積，且每次均需要冷卻處理，從而消除功能層內(nèi)應(yīng)力。