盤形合金鋼工件輝光離子氮化裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201120209540.2 申請日 -
公開（公告）號 CN202144510U 公開（公告）日 2012-02-15
申請公布號 CN202144510U 申請公布日 2012-02-15
分類號 C23C8/36 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 徐雪民;李德東 申請（專利權(quán)）人 資陽晨工電器有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都立信專利事務(wù)所有限公司 代理人 馮忠亮
地址 641301四川省資陽市雁江區(qū)松濤鎮(zhèn)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型為盤形合金鋼工件輝光離子氮化裝置，該裝置不僅實(shí)現(xiàn)了盤形工件的離子氮化，同時(shí)又解決了因氮化溫度不均而產(chǎn)生的變形問題，其核心是保證工件淡化溫度整體誤差控制在±5℃范圍內(nèi)。它包括位于底座（16）上的真空罩（11）和位于真空罩內(nèi)的陰極底座（6），陰極底座上的陰極支柱（5）支承盤形工件（4），真空罩（11）構(gòu)成的陽極與陽極接入口連接，陰極底座（6）與陰極接入口（10）連接，在陰極底座（6）的環(huán)周上均布有若干片狀輔助陰極（3），若干片狀輔助陰極（3）包圍盤形工件，或者陰極底座（6）的周邊與環(huán)形輔助陰極（3）連接，輔助陰極的高度大于陰極支柱（5）的高度與盤形工件（4）的厚度之和。