一種霧化盤(pán)及旋轉(zhuǎn)霧化器

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120336398.1 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214766259U 公開(kāi)（公告）日 2021-11-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN214766259U 申請(qǐng)公布日 2021-11-19
分類號(hào) B05B1/14（2006.01）I;B05B3/02（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 張偉明;黃淑貞 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海盛劍環(huán)境系統(tǒng)科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 201821上海市嘉定區(qū)嘉定工業(yè)區(qū)永盛路2229號(hào)2幢2層210室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種霧化盤(pán)及旋轉(zhuǎn)霧化器，涉及半干法凈化技術(shù)領(lǐng)域。該霧化盤(pán)包括相對(duì)設(shè)置的上盤(pán)和下盤(pán)，沿霧化盤(pán)的周向，上盤(pán)和下盤(pán)之間均勻設(shè)置有多個(gè)導(dǎo)流柱，相鄰兩個(gè)導(dǎo)流柱之間形成供吸收劑流動(dòng)的流道；沿吸收劑的流出方向，導(dǎo)流柱的橫截面積先增大后減小，以使流道的橫截面積沿吸收劑的流動(dòng)方向先減小再增大；導(dǎo)流柱在下盤(pán)上的正投影為倒圓角平行四邊形或橄欖形。通過(guò)該霧化盤(pán)對(duì)吸收劑進(jìn)行霧化時(shí)，能夠增大噴霧距，減小霧化粒徑，提高霧化效果。