一種用于大長徑比金屬管材內(nèi)壁鍍膜的磁控濺射裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121843819.6 申請日 -
公開（公告）號 CN215925059U 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN215925059U 申請公布日 2022-03-01
分類號 C23C14/35（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I;C23C14/16（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 章嵩;涂溶;王傳彬;張聯(lián)盟;沈強(qiáng);李志榮;李迎春 申請（專利權(quán)）人 廣東匯成真空科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 代理人 官群;崔友明
地址 430070湖北省武漢市洪山區(qū)珞獅路122號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種用于大長徑比金屬管材內(nèi)壁鍍膜的磁控濺射裝置，所述裝置以大長徑比金屬管材（4）為磁控濺射腔體，包括：一個或多個空心圓柱狀靶（12）；用于支撐空心圓柱狀靶的多根可伸縮支桿；控制空心圓柱狀靶沿大長徑比金屬管材軸心方向移動的傳動裝置；用于大長徑比金屬管材兩端密封的兩個密封端；與一個密封端連接的抽真空系統(tǒng)（17）；與空心圓柱狀靶通過電線連接的磁控濺射電源（10）。本實(shí)用新型提供的用于大長徑比金屬管材內(nèi)壁鍍膜的磁控濺射裝置能夠控制靶沿大長徑比金屬管材軸心方向移動，解決現(xiàn)有技術(shù)中靶系統(tǒng)自重過大，移動軌道偏離管材軸心導(dǎo)致鍍膜效果不穩(wěn)定的問題，并且通過在安裝多個靶實(shí)現(xiàn)復(fù)雜多層復(fù)合膜層的制備。