一種微波化學(xué)氣相沉積金剛石裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202120949481.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN216074027U | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN216074027U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-18 |
分類號(hào) | C23C16/27(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 李志榮;牛二輝;馮曉庭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣東匯成真空科技股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州知友專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 周克佑 |
地址 | 523838廣東省東莞市大嶺山鎮(zhèn)顏屋龍園路2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種微波化學(xué)氣相沉積金剛石裝置,其包括一真空反應(yīng)室,真空反應(yīng)室的腔體的頂部設(shè)有外接微波波導(dǎo)管的石英玻璃窗口、以及供入反應(yīng)氣的開孔環(huán)形氣道,腔體內(nèi)設(shè)有可升降的試樣臺(tái),腔體固定在腔體固定板上,其特征是:所述試樣臺(tái)也設(shè)有供入反應(yīng)氣的開孔環(huán)形氣道。本實(shí)用新型在反應(yīng)室下方的試樣臺(tái)下面增設(shè)有環(huán)形氣道布?xì)?,在靠近金剛石生長區(qū)近距離補(bǔ)充新鮮反應(yīng)氣體,可獲得更多更具活性的初生碳,更有利于提高金剛石生長速率和定好率;且增設(shè)的布?xì)饨Y(jié)構(gòu)為在原有設(shè)備的水冷盤上方只增加一只工件盤進(jìn)氣板、連接穿過水冷盤升降軸內(nèi)腔增置的供氣管,再外接送氣嘴便可實(shí)現(xiàn)。結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)易、造價(jià)低。 |
