PS版修版膏

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200810063359.8 申請日 -
公開（公告）號 CN101339369A 公開（公告）日 2009-01-07
申請公布號 CN101339369A 申請公布日 2009-01-07
分類號 G03F7/42 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 陳翔風(fēng) 申請（專利權(quán)）人 溫州康爾達(dá)印刷器材有限公司
代理機構(gòu) 溫州新甌專利事務(wù)所 代理人 黃捷
地址 325013浙江省溫州工業(yè)園區(qū)金甌路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種PS版修版膏，其中膏體由下列重量百分比的物料制得：有機溶劑50－70％、氣溶膠二氧化硅10－25％、丙三醇8－25％、氫氟酸1－2％、醇胺0.1－1％，其中氫氟酸本身的重量濃度為40－45％。本發(fā)明可以有效溶解PS版的感光涂層，并使殘留的感光涂層徹底脫落，可完全去除版面上的臟點或菲林邊痕跡，去污性能好，同時可防止版基的氧化層被深度腐蝕，不損壞版基，修版過的地方也不易沾上臟點，不會影響印刷質(zhì)量。