一種高純銻的生產(chǎn)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201711434031.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN108179441A 公開（公告）日 2018-06-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN108179441A 申請(qǐng)公布日 2018-06-19
分類號(hào) C25C1/22;C25C7/06;C22B3/24 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 韋竣嚴(yán);韋建初;蘭岱龍;何正軍;陸宏衛(wèi);曹應(yīng)科;盧忠講 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣西生富銻業(yè)科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京君恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 譚月萍;黃啟行
地址 547000 廣西壯族自治區(qū)河池市金城江區(qū)維六區(qū)三隊(duì)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高純銻的生產(chǎn)方法，其特征在于：將硫酸銻粉末完全溶解后，先采用加壓通過離子樹脂進(jìn)行溶液深度凈化后再利用隔膜電沉積的方法在不銹鋼表面制備高純銻，包括以下步驟：(1)調(diào)節(jié)硫酸銻溶液的pH值，再加壓通過離子交換柱進(jìn)行離子交換深度凈化硫酸銻溶液中的雜質(zhì)；(2)經(jīng)步驟(1)凈化后的硫酸銻溶液采用99.99％的高純銻做陽極，采用預(yù)處理后的不銹鋼基體做陰極進(jìn)行隔膜電解沉積，制備高純銻。本發(fā)明克服了高純銻制備過程中凈化提純的困難，深度去除雜質(zhì)效果明顯，操作簡(jiǎn)單且操作速度快。制得金屬銻純度可高達(dá)99.999％。