一種清洗設(shè)備
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201811094652.0 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN109127627B | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請公布號 | CN109127627B | 申請公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號 | B08B11/02（2006.01）I;B08B11/04（2006.01）I;B08B1/02（2006.01）I | 分類 | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 金衛(wèi)明 | 申請（專利權(quán)）人 | 蕪湖東旭光電裝備技術(shù)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 北京鼎佳達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 王偉鋒;劉鐵生 |
| 地址 | 241000安徽省蕪湖市江北產(chǎn)業(yè)集中區(qū)管委會A樓302室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明實施例提供了一種清洗設(shè)備，該清洗設(shè)備包括：轉(zhuǎn)動機構(gòu)、安插機構(gòu)以及設(shè)置有兩組清洗部件的清洗機構(gòu)；所述安插機構(gòu)安裝在所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)中；所述兩組清洗部件之間具有設(shè)定的間隔；在所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)轉(zhuǎn)動時，所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)帶動所述安插機構(gòu)轉(zhuǎn)動，且所述安插機構(gòu)轉(zhuǎn)動形成的軌跡的正投影從所述兩組清洗部件之間經(jīng)過。因此，本發(fā)明實施例提供的方案可以實現(xiàn)對待清洗物中相對的兩面進行同時清洗。?? |
