一種清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811094652.0 申請日 -
公開（公告）號 CN109127627A 公開（公告）日 2021-06-01
申請公布號 CN109127627A 申請公布日 2021-06-01
分類號 B08B11/04;B08B11/02;B08B1/02 分類 清潔;
發(fā)明人 金衛(wèi)明 申請（專利權(quán)）人 蕪湖東旭光電裝備技術(shù)有限公司
代理機構(gòu) 北京鼎佳達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 王偉鋒;劉鐵生
地址 241000 安徽省蕪湖市江北產(chǎn)業(yè)集中區(qū)管委會A樓302室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實施例提供了一種清洗設(shè)備，該清洗設(shè)備包括：轉(zhuǎn)動機構(gòu)、安插機構(gòu)以及設(shè)置有兩組清洗部件的清洗機構(gòu)；所述安插機構(gòu)安裝在所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)中；所述兩組清洗部件之間具有設(shè)定的間隔；在所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)轉(zhuǎn)動時，所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)帶動所述安插機構(gòu)轉(zhuǎn)動，且所述安插機構(gòu)轉(zhuǎn)動形成的軌跡的正投影從所述兩組清洗部件之間經(jīng)過。因此，本發(fā)明實施例提供的方案可以實現(xiàn)對待清洗物中相對的兩面進行同時清洗。