一種磁瓦清洗設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201922134849.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN212168237U | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-12-18 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN212168237U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-12-18 |
分類號(hào) | B08B1/02;B08B3/02;B08B13/00 | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 趙曙光;蘇建林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 杭州聽(tīng)物科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州華知專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 束曉前 |
地址 | 310023 浙江省杭州市余杭區(qū)五常街道五常大道158號(hào)1幢3層306、307室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種磁瓦清洗設(shè)備,包括箱體底座,所述箱體底座上方設(shè)置有支撐板,所述支撐板上設(shè)置有左導(dǎo)板和右導(dǎo)板,所述左導(dǎo)板和右導(dǎo)板之間形成清洗通道,所述清洗通道上方設(shè)置有刷洗工位和高壓清洗工位,所述刷洗工位設(shè)置有位于清洗通道上下方的滾刷,所述滾刷通過(guò)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)帶動(dòng),所述高壓清洗工位設(shè)置有清洗罩和高壓噴頭,本實(shí)用新型既能清除磁瓦表面的浮塵及污漬,也能清除磁瓦表面的氧化及粘接污漬。 |
