耗盡型終端保護(hù)結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200620078010.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN200956369Y | 公開(公告)日 | 2007-10-03 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN200956369Y | 申請(qǐng)公布日 | 2007-10-03 |
分類號(hào) | H01L23/58(2006.01);H01L27/04(2006.01) | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 易揚(yáng)波;李海松 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 無(wú)錫博創(chuàng)微電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 陸志斌 |
地址 | 214028江蘇省無(wú)錫市新區(qū)長(zhǎng)江路21號(hào)信息產(chǎn)業(yè)園D棟4層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種用于保護(hù)功率集成電路或功率器件的耗盡型終端保護(hù)結(jié)構(gòu),包括:重?fù)诫sN型襯底,在重?fù)诫sN型襯底上設(shè)有輕摻雜N型外延,在輕摻雜N型外延上設(shè)有重?fù)诫sN型截止環(huán)及用于設(shè)置功率集成電路或功率器件原胞的腔體,在輕摻雜N型外延的重?fù)诫sN型截止環(huán)及原胞腔體以外的區(qū)域上方設(shè)有場(chǎng)氧化層,在場(chǎng)氧化層上方設(shè)有多晶場(chǎng)板,在場(chǎng)氧化層、重?fù)诫sN型截止環(huán)及多晶場(chǎng)板上覆有介質(zhì)層,在重?fù)诫sN型截止環(huán)及多晶場(chǎng)板上分別連接有金屬引線,輕摻雜N型外延上設(shè)有接零電位的輕摻雜P型阱,該輕摻雜P型阱位于場(chǎng)氧化層的下面且位于重?fù)诫sN型截止環(huán)與原胞腔體之間。 |
