耗盡型終端保護結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200610096438.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN100440505C | 公開(公告)日 | 2008-12-03 |
申請公布號 | CN100440505C | 申請公布日 | 2008-12-03 |
分類號 | H01L23/58(2006.01) | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 易揚波;李海松 | 申請(專利權(quán))人 | 無錫博創(chuàng)微電子有限公司 |
代理機構(gòu) | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 無錫博創(chuàng)微電子有限公司;蘇州博創(chuàng)集成電路設(shè)計有限公司 |
地址 | 214028江蘇省無錫市新區(qū)長江路21號信息產(chǎn)業(yè)園D棟4層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種用于保護功率集成電路或功率器件的耗盡型終端保護結(jié)構(gòu),包括:重摻雜N型襯底,在重摻雜N型襯底上設(shè)有輕摻雜N型外延,在輕摻雜N型外延上設(shè)有重摻雜N型截止環(huán)及用于設(shè)置功率集成電路或功率器件原胞的腔體,在輕摻雜N型外延的重摻雜N型截止環(huán)及原胞腔體以外的區(qū)域上方設(shè)有場氧化層,在場氧化層上方設(shè)有多晶場板,在場氧化層、重摻雜N型截止環(huán)及多晶場板上覆有介質(zhì)層,在重摻雜N型截止環(huán)及多晶場板上分別連接有金屬引線,輕摻雜N型外延上設(shè)有接零電位的輕摻雜P型阱,該輕摻雜P型阱位于場氧化層的下面且位于重摻雜N型截止環(huán)與原胞腔體之間。 |
