一種粉防己中甲、乙素雙模板分子印跡提純方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010051769.1 申請日 -
公開（公告）號 CN111153909A 公開（公告）日 2020-05-15
申請公布號 CN111153909A 申請公布日 2020-05-15
分類號 C07D491/18;B01D15/08;B01J20/26;B01J20/30;C08F222/14;C08F220/06;C08J9/28 分類 有機(jī)化學(xué)〔2〕;
發(fā)明人 陳金龍;黃文超;黃麗莉;揭建林;朱培林;楊燕歡;郜杰;康月鳳 申請（專利權(quán)）人 石藥集團(tuán)江西金芙蓉藥業(yè)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南昌恒橋知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 332000 江西省九江市彭澤縣芙蓉墩鎮(zhèn)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種藥物提取及純化技術(shù)，具體是提供了一種同時高效分離出粉防己甲素與乙素的技術(shù)方法；即利用甲基丙烯酸、二甲基丙烯酸乙二醇酯和偶氮二異丁氰等與目標(biāo)分子粉防己甲素及乙素合成，再洗脫目標(biāo)分子得到雙模板分子印跡聚合物，再利用該聚合物同時提取粉防己中甲素及乙素，再通過反相色譜柱及制備色譜儀進(jìn)一步分離粉防己甲素及乙素，所得粉防己甲素及乙素純度均達(dá)到99%以上。