真空電弧離子鍍膜陰極體兩用的水冷裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201520378415.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN204727941U | 公開(公告)日 | 2015-10-28 |
申請公布號(hào) | CN204727941U | 申請公布日 | 2015-10-28 |
分類號(hào) | C23C14/32(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 白春陽;王俊波;邊雪 | 申請(專利權(quán))人 | 大連金泰協(xié)力科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 116600 遼寧省大連市大連保稅區(qū)華鐵工業(yè)園IC-45號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型屬于一種真空電孤離子鍍膜陰極體兩用的水冷裝置,包括水冷裝置殼體(14),其特征在于在水冷裝置殼體(14)上設(shè)有水道(3);在水冷裝置殼體(14)上對稱的焊接二個(gè)進(jìn)出水口座(15),在進(jìn)出水口座(15)上設(shè)有進(jìn)出水口(5)與水道(3)連通;在水冷裝置殼體(14)左端設(shè)有O型密封圈槽(4),中心設(shè)有M10螺孔(1)和M12螺孔(2),在M10螺孔(1)中用兩端帶螺紋的連接桿(9)連接陰極體一(7)和靶墊(8);靶墊(8)上設(shè)有O型密封圈槽(4);在水冷裝置殼體(14)的圓周上對稱的焊接兩個(gè)絕緣殼體連接耳座(6),在絕緣殼體連接耳座(6)上用螺栓裝有絕緣墊木掛鉤(16)。該實(shí)用新型既可直接水冷,水垢不腐蝕陰極體,不堵水道;又可間接水冷,冷卻效果好,適應(yīng)不同陰極體的真空電孤離子鍍膜。 |
