微型精密掩膜板及其制作方法和AMOLED顯示器件

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201980083882.3 申請日 -
公開（公告）號 CN113286916A 公開（公告）日 2021-08-20
申請公布號 CN113286916A 申請公布日 2021-08-20
分類號 C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳鼎國 申請（專利權(quán)）人 寰采星科技（寧波）有限公司
代理機構(gòu) 北京景聞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 盧春燕
地址 315174 浙江省寧波市海曙區(qū)高橋鎮(zhèn)新聯(lián)村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種微型精密掩膜板及其制作方法和AMOLED顯示器件，制作方法包括如下步驟：S1、選取基板(10)并進行清洗；S2、在基板(10)上制作掩膜板本體，所述掩膜板本體包括依次設(shè)置的離形層(20)、第一金屬鍍膜(30)與第二金屬鍍膜(40)，或依次設(shè)置的有機高分子層(20)、第一金屬鍍膜(30)與第二金屬鍍膜(40)；S3、在第二金屬鍍膜(40)上焊接掩膜板框架(50)，并制作貫穿掩膜板本體的多個微孔，或制作貫穿掩膜板本體的多個微孔并在第二金屬鍍膜(40)上焊接掩膜板框架(50)；獲得微型精密掩膜板。微型精密掩膜板可蒸鍍有機發(fā)光器件，制作出以紅綠藍或其它顏色發(fā)光器件為子畫素設(shè)計組合而成的超高分辨率全彩有機發(fā)光二極體(OLED)顯示器件。