化學氣相沉積設備及其手盤斜度自動調節(jié)結構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121041057.8 申請日 -
公開（公告）號 CN215163126U 公開（公告）日 2021-12-14
申請公布號 CN215163126U 申請公布日 2021-12-14
分類號 C23C16/54（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 魏桂忠;侯志義;霍曉陽 申請（專利權）人 河北普興電子科技股份有限公司
代理機構 石家莊國為知識產權事務所 代理人 李榮文
地址 050200河北省石家莊市鹿泉經濟開發(fā)區(qū)昌盛大街21號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供了一種化學氣相沉積設備及其手盤斜度自動調節(jié)結構，屬于半導體技術領域，手盤斜度自動調節(jié)結構包括機械手和調節(jié)組件，其中，機械手包括：移動本體；手桿，一端轉動連接于移動本體；手盤，連接于手桿的另一端；以及偏心軸系，其周向輪廓抵接于手桿的周向輪廓；調節(jié)組件包括：驅動電機，設于移動本體，且連接于偏心軸系；以及控制器，與驅動電機通信連接，且用以內置于或外置于化學氣相沉積設備，控制器控制驅動電機帶動偏心軸系旋轉以使手桿處于目標斜度。上述手盤斜度自動調節(jié)結構實現了手桿及手盤斜度的自動調整，能夠在裝取片的過程中，自動地調整偏心軸系的旋轉角度，無需停機，兼容地協(xié)調手盤斜度和片子表面缺陷之間的矛盾。