一種無(wú)膜法電解低濃度鹽水的次氯酸鈉生產(chǎn)工藝及裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010498236.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN111676486A 公開(kāi)(公告)日 2020-09-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN111676486A 申請(qǐng)公布日 2020-09-18
分類號(hào) C25B1/26(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 姚廣平;張延峰;金顯旺;范振奇;劉振威;王敏鋒 申請(qǐng)(專利權(quán))人 山東華特達(dá)因健康股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南圣達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 鄭平
地址 250010 山東省濟(jì)南市高新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)穎秀路山大科技園華特大廈
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種無(wú)膜法電解低濃度鹽水的次氯酸鈉生產(chǎn)工藝及裝置,飽和鹽水與軟化水中稀釋水混合,得到稀鹽水;軟化水中的補(bǔ)水直接進(jìn)入電解裝置;軟化水由稀釋水和補(bǔ)水組成。所述飽和鹽水和軟水流量比1:15.5,混合后鹽水濃度質(zhì)量分?jǐn)?shù)2%;所述稀釋水和補(bǔ)水流量比1:1;所述電解裝置為無(wú)隔膜式透明管板式電解槽;所述電解槽電極極間距1?1.5mm;所述電解槽內(nèi)部有隔板密封裝置,包括氫氣通道,電解小室隔板,密封圈,電極卡槽,固定板;所述陰極部分采用高催化鈦基金屬氧化物析氫電極,涂層由氧化釕、氧化銥、氧化鎳、氧化鉬、氧化鈰、氧化鑭其中的一種或多種組成;所述次氯酸鈉濃度0.8%左右。本發(fā)明不僅降低設(shè)備運(yùn)行成本,同時(shí)擴(kuò)展了無(wú)膜法次氯酸鈉發(fā)生器的應(yīng)用。??