一種場地標(biāo)定方法及實施該方法的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201710295711.X 申請日 -
公開（公告）號 CN106989674B 公開（公告）日 2019-06-28
申請公布號 CN106989674B 申請公布日 2019-06-28
分類號 G01B11/00（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 劉錚; 邢忠賢; 丁俊朋; 俞武治 申請（專利權(quán)）人 北京瑞蓋科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京東方匯眾知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 北京瑞蓋科技股份有限公司
地址 100061 北京市東城區(qū)長青園7號1棟3507室502號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種場地標(biāo)定方法及實施該標(biāo)定方法的裝置，以解決使用現(xiàn)有技術(shù)中的標(biāo)定方法標(biāo)定目標(biāo)物時目標(biāo)物的位置精度難以保證的問題。使用本發(fā)明的場地標(biāo)定方法標(biāo)定目標(biāo)物相對場地位置時，首先將場地劃分為多個能夠覆蓋全場地的局部坐標(biāo)系。其后在計算決策點的具體位置坐標(biāo)時通過以下三步實現(xiàn)，第一步，通過圖像坐標(biāo)三維重建求出決策點的全場坐標(biāo)；第二步，根據(jù)決策點的全場坐標(biāo)選出一個能使計量結(jié)果最為精準(zhǔn)的最優(yōu)局部坐標(biāo)；第三步，通過坐標(biāo)變換的方式求出決策點的最終全場坐標(biāo)。而求出的最終全場坐標(biāo)建立在步驟1得出的全場模型上，所以最終全場坐標(biāo)是相對于步驟1得到的全場模型的結(jié)果，能將場地建設(shè)誤差對標(biāo)定精度的影響最小化。