一種合金薄膜電沉積設(shè)備及其在Au80Sn20共晶焊料制備中的應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010902301.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111910228A | 公開(公告)日 | 2020-11-10 |
申請公布號 | CN111910228A | 申請公布日 | 2020-11-10 |
分類號 | C25D3/62(2006.01)I | 分類 | 電解或電泳工藝;其所用設(shè)備〔4〕; |
發(fā)明人 | 奚亞男;胡淑錦 | 申請(專利權(quán))人 | 惠州市鈺芯電子材料有限公司 |
代理機構(gòu) | 佛山幫專知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 惠州市鈺芯電子材料有限公司 |
地址 | 516083廣東省惠州市大亞灣西區(qū)科技創(chuàng)新園科技5號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種合金薄膜電沉積設(shè)備及其在Au80Sn20共晶焊料制備中的應(yīng)用。設(shè)備包括電鍍槽和補加槽?;窘Y(jié)構(gòu)包括槽體(1),電鍍槽蓋(2)和補加槽蓋(3)。在電鍍槽部分,包括噴射裝置(4),測溫系統(tǒng)(5)、加熱棒(6),陽極掛具(7)、陰極片(8)、旋轉(zhuǎn)裝置(9)、密封系統(tǒng)(10),進料口(11)。在補加槽部分,包括料液出口(12),溫控系統(tǒng)(13)和加熱棒(14)。料液進出口連接外加電機及過濾裝置。電鍍電源通過接口(15)連接。本發(fā)明的反應(yīng)器裝置用于制備微米級尺寸的Au80Sn20合金焊料。成膜速度快、膜厚范圍寬、可以精確控制金錫的比例,并能形成微細(xì)復(fù)雜的形狀。避免了合金箔片熔融焊接時,焊片尺寸與形狀發(fā)生改變,導(dǎo)致焊接位置偏移,釬焊性能大幅度降低。設(shè)備適用于超小型化與超薄型電子元器件的焊接。?? |
