差分相移鍵控解調(diào)器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201210302581.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN102833007B | 公開(公告)日 | 2015-06-17 |
申請公布號 | CN102833007B | 申請公布日 | 2015-06-17 |
分類號 | H04B10/66(2013.01)I;H04L27/22(2006.01)I | 分類 | 電通信技術(shù); |
發(fā)明人 | 秦偉;宿文玲 | 申請(專利權(quán))人 | 諾方(哈爾濱)科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 諾方(哈爾濱)科技股份有限公司 |
地址 | 150078 黑龍江省哈爾濱市高新區(qū)迎賓路集中區(qū)東湖街副8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種差分相移鍵控解調(diào)器。包括:一雅滿干涉儀,該雅滿干涉儀包括一入射端口、第一出射端口、第二出射端口、兩個結(jié)構(gòu)完全相同的第一分束片、第二分束片,以及相位調(diào)制器;第一分束片的底面和第二分束片的頂面上分別形成有用于將一入射光束完全反射的第一反射膜和第二反射膜,第一分束片的頂面和第二分束片的底面上分別部分形成有用于將一入射光束分成能量相等的兩束的第一分光膜和第二分光膜;信號光束經(jīng)第一分光膜分成反射光束和透射光束,反射光束和/或透射光束經(jīng)相位調(diào)制器后在第二分光膜處相遇發(fā)生干涉、形成第一干涉光束和第二干涉光束,并分別射出。本發(fā)明提供的差分相移鍵控解調(diào)器,結(jié)構(gòu)簡單、體積小,制造成本更低。 |
