干涉組件及光學梳狀濾波器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201210275083.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103576330A | 公開(公告)日 | 2014-02-12 |
申請公布號 | CN103576330A | 申請公布日 | 2014-02-12 |
分類號 | G02B27/28(2006.01)I;G02B27/30(2006.01)I | 分類 | 光學; |
發(fā)明人 | 秦偉;張顯清;高麗瑋;張華維 | 申請(專利權)人 | 諾方(哈爾濱)科技股份有限公司 |
代理機構 | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 | 代理人 | 諾方(哈爾濱)科技股份有限公司;張濛濛 |
地址 | 150078 黑龍江省哈爾濱市高新區(qū)迎賓路集中區(qū)東湖街副8號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種干涉組件及光學梳狀濾波器,其中,包括支撐單元,用于提供支撐;分光單元,固定在支撐單元上,用于將從分光單元偏振分光膜的入射點處射入的入射光分為具有不同偏振狀態(tài)的透射光和反射光,并分別進行透射和反射;第一全反單元,固定在支撐單元上,且位于透射光和反射光的光路上,其用于改變透射光和反射光的偏振狀態(tài),且分別將透射光和反射光反射回至偏振分光膜的入射點處,使透射光和所述反射光經過偏振分光膜從分光單元出射后發(fā)生干涉;補償單元,固定在支撐單元上,位于透射光在分光單元和第一全反單元之間的光路上;補償單元用于補償透射光的相位。上述技術方案提供的干涉組件,可以有效降低儀器的成本,增加使用的便利性。 |
