LED制備工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010077300.5 申請日 -
公開(公告)號 CN111244233A 公開(公告)日 2020-06-05
申請公布號 CN111244233A 申請公布日 2020-06-05
分類號 H01L33/00(2010.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 孫蕾蕾 申請(專利權(quán))人 江蘇明納半導(dǎo)體科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 224700 江蘇省鹽城市建湖縣高新區(qū)經(jīng)六路智慧產(chǎn)業(yè)園A區(qū)3#樓3-4層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種LED制備工藝,包括提供一襯底;對襯底進(jìn)行高溫處理;依次形成緩沖層、未摻雜層、第一半導(dǎo)體層、發(fā)光層、第二半導(dǎo)體層;所述緩沖層包括依次形成在所述襯底上的第一緩沖層、第二緩沖層、第三緩沖層,所述第一緩沖層形成過程中溫度逐漸減低,所述第二緩沖層形成過程中溫度保持不變,所述第三緩沖層形成過程中溫度逐漸升高。本發(fā)明通過不同溫度下形成的多種晶體形態(tài)緩沖層,釋放了緩沖層自身的內(nèi)部應(yīng)力,最后形成的緩沖層表面也較普通緩沖層平滑,得到外延片表面形貌好,由于制備過程中充分利用了利用降溫和升溫階段,無需單獨(dú)的步驟形成,節(jié)省了制程時間,最后得到的LED結(jié)晶質(zhì)量好、缺陷密度低。??